超低雜散光光纖光譜儀包括一個新型光學(xué)平臺

    AvaSpec-ULS系列光譜儀包括一個光學(xué)平臺，大大降低了雜散光并提高了機械和溫度穩(wěn)定性。這個新型的光學(xué)平臺具有一個雙內(nèi)置模式消除器和多階復(fù)合拋物面鏡，因此把雜散光降到0.04%，比標(biāo)準型AvaSpec-2048光譜儀提高了2.5倍。除了能夠顯著改善雜散光，這個新型光學(xué)平臺還把光譜儀的機械強度提高了10倍以上，使得它對機械扭曲和溫度變化不再敏感。AvaSpec-ULS光學(xué)平臺可以使用以下探測器：1024, 2048, 2048L, 3648和2048x14，而且和標(biāo)準的75mm Avabench光學(xué)平臺具有同樣的外型尺寸。

    AvaSpec-ULS光譜儀的低雜散光特性使得它特別適用于需要測量高吸光度的應(yīng)用，如高化學(xué)濃度、高光學(xué)密度光學(xué)元件和長光程的測量等。這個新型的光學(xué)平臺和光譜儀既適用于OEM應(yīng)用，也適用于單臺儀器的應(yīng)用。

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